Electronic Design and Solution Fair 2006
 
SIGMA-C (株)
SIGMA-C K.K.
311
 
 
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出展物紹介 SIGMA-Cのリソグラフィ・シミュレーションソフトウェアは半導体製造のバックエンド設計から製造までをモデル化して、正確なイメージ検証、歩留まりの向上、マスクとウェハ作成コストの削減、設計の逆戻り防止を実現するDFMツールです。全ての先端半導体メーカーはSIGMA-Cのツールを使い、光学リソグラフィー、電子ビームリソグラフィーおよび次世代リソグラフィー技術の開発とプロセス工程の最適化を行っています。

SIGMA-C's lithography simulation software models semiconductor fabrication from back end design to manufacture (DFM) to achieve precise image verification, improve product yields, reduce mask and engineering wafer costs, and prevent re-spins. All leading-edge semiconductor manufacturers use SIGMA-C tools to develop and optimize process sequences for optical lithography, e-beam lithography and next-generation lithography technologies.
 



 



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