Electronic Design and Solution Fair 2007
 
シエラ・デザイン・オートメーション(株)
Sierra Design Automation K.K.
508
 
 
所在地 〒108-0014
東京都港区芝4-13-3 エフアイビル9階
Efuai Building 9F, 4-13-3 Shiba, Minato-ku Tokyo
連絡先 営業部
Sales
TEL:03-5439-6951
FAX:03-5439-6952
E-mail:sales_japan@sierra-da.com
URL:http://www.sierra-da.com
出展物紹介 シエラ・デザイン・オートメーションは、先端LSI設計で必須となるDesign for Variability(バラつき対応設計)ソリューションのリーディングカンパニーで、Pinnacle、Olympus-SoCを提供しております。
シエラ社ブースでは、65nm以降のプロセス・ノードにおいて克服しなければならない技術課題(Lithography変動 や CMPなどの製造プロセス変動を考慮した設計手法、プロセス・コーナー数 並びに LSI動作モードの増加、設計マージンの最適化、大規模設計への対応、など)へのソリューションをご案内いたします。
Olympus-SoC : Lithography-Driven自動配線などのDFM機能を含む最先端Netlist-to-GDSソリューション
Pinnacle : Design for Variability対応のインプリメンテーション・システム
出展者セミナー  
シエラ・デザイン・オートメーション(株)
1月25日(木)
新製品
E205  14:30 〜 15:15
最先端プロセスにおけるリソグラフィ及びプロセス変動を考慮したレイアウト設計手法
Mathew Philip氏 (シニア・テクニカル・スタッフ)
65nm以降の先端プロセス・ノードにおけるLSIレイアウト設計では、プロセスや動作環境変動に伴う各種バラつき 並びに 設計が大規模化することに伴い増加・複雑化するLSIの動作モード数の増加へ対応する機能に加えて、Lithographyの変動やCMPプロセスの変動を考慮したDFM対応設計ソリューションの開発が課題となります。
このセミナーでは、そのような課題に対応する設計手法とそれを実現する技術要素について説明いたします。
1月26日(金)
新製品
E204  13:30 〜 14:15
最先端プロセスにおけるリソグラフィ及びプロセス変動を考慮したレイアウト設計手法
Mathew Philip氏 (シニア・テクニカル・スタッフ)
65nm以降の先端プロセス・ノードにおけるLSIレイアウト設計では、プロセスや動作環境変動に伴う各種バラつき 並びに 設計が大規模化することに伴い増加・複雑化するLSIの動作モード数の増加へ対応する機能に加えて、Lithographyの変動やCMPプロセスの変動を考慮したDFM対応設計ソリューションの開発が課題となります。
このセミナーでは、そのような課題に対応する設計手法とそれを実現する技術要素について説明いたします。

   
   



 
 




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