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プレスリリース

TOOL社、レイアウト表示プラットフォーム LAVISの最新版を発表

  (2009/1/13)

2009年1月13日 東京 - TOOL株式会社(本社:東京都目黒区、代表取締役社長、本垰秀昭、以下 TOOL)はこのたび、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」の最新版、「LAVIS Ver.8.1」をリリースいたしました。本バージョンでは、色設定や表示に関する使い勝手の向上に加え、DFMを意識したデザインチェッカーとしてお使いいただける機能追加を図りました。また、OASISフォーマットに対する簡易編集機能を追加したことで、簡易エディタとしての付加価値も高まり、設計から製造にわたる全工程において、LAVISをより一層身近な製品としてご活用いただけます。

本バージョンでは、デザインチェッカーやエディタとしての用途に主眼を置いて、機能追加と強化が行われています。主な内容は以下のとおりです。

(1) 等電位追跡機能の強化
解析の際の目安となるノードの分岐箇所の確認と表示、配線長と抵抗値の算出が可能になりました。抵抗値計算機能により、従来は手計算などで抵抗成分を見積もっていた作業が不要となります。また、接続箇所におけるビア数のチェックを行うことも可能となり、歩留まりの向上のためのDFM手法のひとつであるダブルビアのチェックも行うことができます。等電位追跡を起点としたこれらの機能群は、DFM設計における「簡易デザインチェッカー」として、設計の早期段階でご活用いただけます。

(2) 簡易編集機能(オプション)の強化
LAVISのオプション、「簡易編集機能」においてOASISの編集ができるようになりました。オブジェクトの移動や編集、追加や削除、アレイの展開、ポリゴンやパス、およびテキストの追加など、今や標準フォーマットとなっているOASISに対する「簡易エディタ」としてさまざまな編集作業を容易に行うことができます。

(3) 色設定や表示に関する使い勝手の向上
ビューアとしての基本である色の設定や表示の見やすさを向上しました。お客様がカスタマイズした色やフィルパターンをテンプレートとして保存できるようになりました。これにより、独自に生成したレイアセットを別デザインでも用いることが可能となります。また、等電位追跡やネット情報検索機能による解析箇所を見やすくするため、背景色のビューの明るさを調整できる機能を付けました。今まで以上に解析対象を強調して表示できるため、より円滑に解析作業を行うことができます。

このほかにも、DensityMap表示機能の強化や、VSB12パターンのファイルオープン時間のさらなる短縮とメモリ消費の抑制、他社EDAベンダーツールとの連携強化など、多数の機能追加と強化が図られています。

TOOL の代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびのバージョンアップでは、デザインの簡易チェッカーやエディタとしての用途の充実を図り、LAVISが持ち合わせている軽さと速さに付加価値を加えることができました。今後もお客様の貴重な声を反映し、機能強化と性能向上を図ってまいる所存です。」

LAVISについて
大規模対応・超高速表示・マルチフォーマット対応の多目的レイアウト表示プラットフォームです。独自の表示方式とメモリ管理手法により、大規模データを効率的に入力、表示することができます。 さらに、GDSII、OASIS、LEF/DEFや、各種マスク描画装置フォーマットなど、あらゆるフォーマットに対応し、他ツールや装置とのインターフェース構築も容易なことから、設計・検証・マスク製造・検査・不良解析など、全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。

TOOLについて
TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/ をご覧ください。