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STARCがAtrentaとツール品質向上プログラムを開始

STARCがAtrentaとツール品質向上プログラムを開始

神奈川県横浜市 - 2010年1月27日 - 株式会社 半導体理工学研究センター(STARC)とAtrenta,Inc.(Atrenta)は、STARCで開発したEDAツール評価用データベース(以下、QAデータベース)を活用した品質向上プログラムを実施し、その有効性を確認しました。
STARCでは、テストケースとよぶ評価仕様書や評価モチーフなどから構成したQAデータベースを提供しました。 Atrentaは、同社製SpyGlassの出荷テストにおいて、QAデータベースに基づいた評価を行うことにより、改版時に発生する不具合の早期発見、およびその改修を行うことで製品の品質向上が可能となりました。
更に、Atrentaでの評価実施結果をSTARCへレポートする仕組みを立ち上げました。このレポート(以下、QAレポート)には、評価結果(不具合の有無、不具合の場合は内容と改修予定情報)とQAデータベースに対応した仕様変更情報も含まれていることから、変更内容等を確認することにより、設計者がツールを設計現場へ導入するかどうかの判断を円滑に行うことが可能となりました。
STARC 西口信行(執行役員兼開発第一部長)は、「AtrentaへQAデータベースの組込みを依頼した1.5年前から現在に至る試行では、組込み以前に見られたツール改版時のリグレッションが、一切確認されなくなった。
また、今回、QAレポート作成までの協力をAtrenta社から得られたことで、STARCクライアントへの必要情報の展開が適時おこなえるようになり、クライアントでの改版時に行う確認作業が削減された。」と効果を感じています。

Atrenta  Mike Gianfagna( vice president of marketing)は、「STARCクライアント各社が合意した設計者視点の評価項目を体系化したQAデータベースを活用することにより効率よく製品品質の維持が行え、市場における不具合を減少させることが出来た。また、QAレポートのシェアにより、ユーザ・サポートがより円滑に行えるようになった。」とコメントしています。
STARCとAtrentaでは、今回の効果を確認したことにより、評価機能の  追加や適用EDAツールを拡大することによって、ツール品質の維持および評価・サポートコストの削減を更に推進していきたいと考えております。

(株)半導体理工学研究センターについて
(株)半導体理工学研究センター(STARC)は、平成7年12月に日本の半導体メーカー11社の出資で設立され、国内大学の半導体関連研究基盤を拡大するため、大学と半導体産業界との共同研究を推進するとともに、SoC設計技術者育成、SoC設計効率向上を目指した設計基盤技術の共同開発を行っています。さらに、活動成果を出資企業へ移転しその事業に寄与するとともに、技術標準として公開あるいはパートナー企業へライセンス供与して製品化し、日本の半導体産業の競争力向上に貢献しています。 詳しくはSTARCのホームページ( www.starc.or.jp )をご覧下さい。

Atrentaについて
AtrentaはIC設計フロー全体を通じて設計効率を劇的に改善するEarly Design Closure®ソリューションで業界をリードしています。顧客はRTL設計早期にリンティング、CDC(クロック・ドメイン・クロッシング)、消費電力予測及び削減、DFT(Design for Test)、タイミング例外を含む設計制約生成および検証、RTLプロトタイピングを含むAtrentaの各種ツールおよび手法を使うことにより設計を最適化します。Atrentaにより最適化されたRTLはチップインテクグレーション、インプリメンテーションおよび検証の段階で最大30%の効率性アップを可能にします。Atrentaのユーザー数は150社を超え、世界の大手半導体メーカー上位10社も含まれています。詳しくは、 www.atrenta.com を参照してください。

詳細については、以下までお問い合わせください。

(株)半導体理工学研究センター(STARC)
開発第1部 先端コアプログラム
電話:045-478-3300(代表)
https://www.starc.jp/other/contactus-j.html
FAX:045-478-3299
住所: 〒222-0033 横浜市港北区新横浜3-17-2
友泉新横浜ビル 5F

アトレンタ株式会社 営業部
電話 : 045-470-3803(代表)
https://www.atrenta.jp
FAX : 045-470-3805
住所: 〒222-0033 横浜市港北区新横浜3-17-5
    Benex, S-2 ビル 9F

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Atrenta、Atrenta Logo、SpyGlass、Early Design ClosureはAtrenta Inc.の登録商標です。
本プレス・リリースは将来を見通した内容が含まれています。 それらの見通しは予告無しに変更される事がありますので、予め御了承下さい。